極紫外光刻技術（EUV）已成為半導體產業的重要創新，驅動先進製程技術的發展。然而，這些設備的電力消耗令人矚目。每台EUV設備的能耗可達到約1400千瓦，足以供應一個小城市的用電需求。據科技研究機構TechInsights的分析，到2030年，全球所有使用EUV的晶圓廠每年的總電力消耗將超過5萬4000吉瓦，這甚至超越了許多小型國家的年用電量。
目前全球擁有31座裝有EUV的晶圓廠，預計到2030年將增加至59座，設備數量亦將倍增，進一步推高電力需求。這些設備約佔晶圓廠總用電量的11%，其餘電力則用於其他生產設備與冷卻系統等配套設施。新一代EUV設備的能耗預期更高，可能達到每台1400千瓦。隨著英特爾、台積電、三星等公司持續擴展生產規模，全球的耗電量將大幅增加。
